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日本旭精工王研式透氣度儀EG01-55-1MR檢測(cè)范圍用于電池行業(yè)的日本王研氏透氣度儀-旭精工EG01-55-1MRデジタル型王研式透気度試験機(jī)ＥＧシリーズは紙、高分子フィルム、不織布など、さまざまなシート材料の透気度（透気抵抗度）を簡(jiǎn)単な...
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露點(diǎn)儀選型和使用注意事項(xiàng)濕度被定義為氣體中水蒸氣的含量,是一個(gè)重要的環(huán)境參數(shù)。測(cè)量氣體濕度的基本量是混合比,即水蒸氣質(zhì)量和干氣質(zhì)量之比,用重量法濕度計(jì)得以實(shí)現(xiàn)。但用重量法測(cè)量混合比技術(shù)難度大、操作繁瑣,實(shí)際測(cè)量濕度量值大多數(shù)采用露點(diǎn)。本文主...
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黑白反射光密度計(jì)檢測(cè)原理黑白密度計(jì)是印刷廠常用的原稿測(cè)量?jī)x器。是測(cè)量黑白原稿的灰度值和測(cè)量連續(xù)調(diào)或者網(wǎng)點(diǎn)值的光電測(cè)量?jī)x器。密度計(jì)分為透射式密度計(jì)和反射式密度計(jì)兩類。透射式密度計(jì)適于測(cè)量透明原稿，反射式密度計(jì)適于測(cè)量實(shí)地原稿。密度計(jì)的測(cè)量范圍...
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鋰離子電池極片涂布機(jī)技術(shù)理化所研制的涂布機(jī)主要特點(diǎn)包括：1)ST系列極片涂布機(jī)集現(xiàn)代涂布、干燥先進(jìn)技術(shù)和本所30多年專業(yè)研究涂布干燥技術(shù)成果和設(shè)計(jì)操作經(jīng)驗(yàn)之大成,同時(shí)不斷地在技術(shù)上進(jìn)行創(chuàng)新與發(fā)展,使涂布機(jī)的整體技術(shù)水平在國(guó)內(nèi)始終處于領(lǐng)xia...
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測(cè)量100nm左右的鋁蒸鍍膜厚的渦流膜厚儀測(cè)量非磁性金屬（鋁、銅、黃銅）上的非導(dǎo)體涂層、鋼上的各種鍍層、非金屬上的銅、鍍銀等，基材和涂層之間導(dǎo)電性差異較大?？蓪?shí)現(xiàn)高度穩(wěn)定和高精度的薄膜厚度測(cè)量。渦流膜厚儀的特點(diǎn)?可以在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行檢測(cè)?非破...
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日本densoku電解膜厚儀的操作范圍電解膜厚儀GCT-311的特點(diǎn)改進(jìn)的可操作性和增強(qiáng)的功能通過(guò)使用個(gè)人計(jì)算機(jī)提高了可操作性并增強(qiáng)了功能。簡(jiǎn)單的數(shù)據(jù)處理使用Windows規(guī)范可以輕松完成數(shù)據(jù)處理。最多可注冊(cè)50個(gè)頻道最多可注冊(cè)50個(gè)測(cè)量通...
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流變儀測(cè)試膏霜產(chǎn)品的相關(guān)研究為了解客觀測(cè)量?jī)x器質(zhì)構(gòu)儀和流變儀與主觀感官評(píng)定結(jié)果的關(guān)聯(lián)性,對(duì)8款不同質(zhì)地的膏霜產(chǎn)品進(jìn)行質(zhì)構(gòu)和流變性能測(cè)試分析,以及主觀感官評(píng)定分析。采用pearson相關(guān)性及顯著性分析方法,對(duì)質(zhì)構(gòu)壓縮模式測(cè)試和流變儀穩(wěn)態(tài)剪切及...
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堆肥發(fā)酵前后的成分分析設(shè)備對(duì)堆肥發(fā)酵處理前后的雞糞中營(yíng)養(yǎng)成分進(jìn)行了分析研究,研究發(fā)現(xiàn)堆肥發(fā)酵處理前后的雞糞營(yíng)養(yǎng)成分總體升高,保證了肥效,同時(shí)重金屬含量也有所升高,這可能是鮮雞糞含水量較高,有機(jī)雞糞含水量較低,導(dǎo)致堆肥發(fā)酵處理后的雞糞中重金屬...
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用于半導(dǎo)體相關(guān)的桌面型紫外線照射器MA-UVI-系列高功率和低成本。盡管桌面型設(shè)計(jì)緊湊，但仍支持各種工作尺寸。概述黑光規(guī)格手動(dòng)紫外線照射器是一種桌面型紫外線照射器，可固化紫外線固化膠帶膠水、粘合劑等。UVI-1201MB7增強(qiáng)型燈管照度監(jiān)控...
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光學(xué)非接觸式小直徑內(nèi)徑測(cè)量技術(shù)1測(cè)量速度快●由于IDM是絕對(duì)測(cè)量，測(cè)量完成前僅為臥式測(cè)長(zhǎng)機(jī)的1/3。（與本公司相比）IDM沒(méi)有鐵砧。使用在工件壁上反射的光筆進(jìn)行測(cè)量?？梢灶A(yù)期高精度的測(cè)量結(jié)果，而對(duì)測(cè)量值的影響很小。更換工件時(shí)，無(wú)需更改設(shè)置。...
